美股内部交易 | 盛美于3月13日披露15笔公司内部人交易情况

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2026年3月13日, 盛美(ACMR)披露15笔公司内部人交易情况。持股10%以上股东Wang David H于2026年3月12日买入6.00万股。

【近期内部交易】

披露日期 职位 姓名 交易日期 买/卖 数量 每股成交价/美元 总金额/美元
2026年3月13日 持股10%以上股东 Wang David H 2026年3月11日 卖出 4627 48.34 22.37万
2026年3月13日 高管 McKechnie Mark 2026年3月12日 买入 3.86万 19.49 75.14万
2026年3月13日 持股10%以上股东 Wang David H 2026年3月12日 卖出 702 46.57 3.27万
2026年3月13日 持股10%以上股东 Wang David H 2026年3月11日 卖出 5.54万 47.89 265.18万
2026年3月13日 持股10%以上股东 Wang David H 2026年3月12日 卖出 3.87万 45.74 177.18万
2026年3月13日 高管 McKechnie Mark 2026年3月12日 买入 6.00万 13.89 83.34万
2026年3月13日 持股10%以上股东 Wang David H 2026年3月12日 买入 11.00万 1.00 11.00万
2026年3月13日 持股10%以上股东 Wang David H 2026年3月12日 卖出 1.06万 44.92 47.44万
2026年3月13日 高管 McKechnie Mark 2026年3月12日 卖出 8639 44.94 38.82万
2026年3月13日 高管 McKechnie Mark 2026年3月12日 卖出 1.19万 44.89 53.46万

【公司资料】

盛美半导体设备股份有限公司于1998年1月在加利福尼亚州注册成立,并于2016年11月在特拉华州重新注册。该公司集研发、设计、制造、销售于一体,为全球客户提供高端半导体设备。主要产品有单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备、前道涂胶显影设备及PECVD设备等。公司坚持差异化竞争和创新的发展战略,通过自主研发的单片兆声波清洗技术、单片槽式组合清洗技术、电镀技术、无应力抛光技术和立式炉管技术等,向全球晶圆制造、先进封装及其他客户提供定制化的设备及工艺解决方案,有效提升客户的生产效率、提升产品良率并降低生产成本。

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